请问，被称为芯片的“魄”，国产蚀刻机在世界上处于什么水平？
一个国家技术上的进展，是能够更快速的掌握发展实力的。在现在的发展过程当中，芯片的制造算是一个技术难关，毕竟这是一种新兴发展起来的产业，它关系着很多电子产品以及智能产品的心脏部位。
一、我国蚀刻机在世界上处于领先地位
在我国中微半导体，他们的采用先进技术再次突破世界级难题，使我国蚀刻机在世界上处于地位。这一技术的突破，是目前在芯片制造上掌握的国家是比较少的，而我国关于蚀刻机技术的突破，使我国在这一技术领先的世界。
由于中微半导体研制的5纳米蚀刻机早已通过台积电的认证，那么在台积电生产5纳米级芯片时，生产线上的部分蚀刻机将会是中国制造。目前中微半导体已经向台积电的供应链提供5纳米蚀刻机设备。批量生产如此高精度的芯片，EUV光刻机固然重要，但在芯片制造过程中的“刻蚀”同样不可或缺，而且所使用的蚀刻机也必须在精度上与芯片精度保持一致。
现在芯片的发展向着越来越小的一种工艺进展，我们也整体在向着一些更进阶级的芯片进展，现在还算是比较不错的是中芯集团完成的14纳米的量产。关于7纳米的芯片，也有了技术的突破，而台积电也在准备实现7纳米芯片的量产，除此之外中微集团的这一技术突破，也让他们直接把方向定向了5纳米芯片的研制。如果中微企业能够在蚀刻机上有更多的进步的，那么光刻机就可以实现高分辨率研制国产化。
中微刚创立之初就选择了蚀刻机作为专攻的方向，其创始人尹志尧在美国高科技产地硅谷闯荡多年，并在回国建立中微时带回了一批资历颇深的华裔科学家，其与15位半导体科学家联合成立了公司。这也是中微为何仅用4年就掌握10多纳米的蚀刻机技术。
二、蚀刻机的工作原理
蚀刻机的基本工作原理是，蚀刻机抽取蚀刻药液，形成一定的喷淋压力（现行的压力在3~3.5kg），利用喷嘴形状（大致分锥开和扇形）所形成的喷淋效果，对产品进行喷淋蚀刻，按要产品要求的蚀刻深度来确定蚀刻机的行辘速度或蚀刻的时间确定。
一般蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
半导体是采用光刻原理。干法刻蚀是把硅片表面曝露于气态中产生的等离子体，等离子体通过光刻胶中开出的窗口，与硅片发生物理或化学反应（或这两种反应），从而去掉曝露的表面材料，所以干法刻蚀也称等离子刻蚀。干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最重要方法。
半导体工艺流程主要包括单晶硅片制造、IC设计、IC制造和IC封测等环节。在每个工艺环节中，都需要大量的软件和硬件设备。 而采用物理或化学方法是物质（原材料）附着于衬底材料表面的过程即为薄膜生长。薄膜生长广泛用于集成电路、先进封装、发光二极管、MEMS、功率器件、平板显示等领域。根据工作原理的不同，集成电路薄膜沉积可分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和外延三大类。主要设备有PECVD、LPCVA、ALD、PVD等。
刻蚀是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。通常的晶圆加工流程中，刻蚀工艺位于光刻工艺之后，有图形的光刻胶层在刻蚀中不会受到腐蚀源的显著侵蚀，从而完成图形转移的工艺步骤。刻蚀环节是复制掩膜图案的关键步骤。
三、 蚀刻机主要应用
蚀刻机主要应用于航空、机械、标牌工业中，蚀刻机技术广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工。如今广泛应用于金卡标牌加工、手机按键加工、不锈钢滤网加工、不锈钢电梯装饰板加工、金属引线框加工、金属眼镜脚丝加工、线路板加工、装饰性金属板加工等工业用途。
高分辨率蚀刻机在半导体领域芯片制作有重要应用， 在半导体和线路版制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。半导体领域是一个非常复杂的产业链，可以说没有半导体产业的发展，也就没有如今的互联网时代，互联网时代其实也可以叫硅晶片时代，我们电脑、手机、电视等等，它们所用到的芯片、集成电路等都是用硅制造出来的。
蚀刻机我国的水平已经达到了世界一流水平，我们的蚀刻机水平已经达到了目前世界上最先进的5纳米级别，当然并不是只有我们自己一家达到这个水平，世界上总共能做到5纳米级别的有四五家，我们只是其中一家，日本可以做到，美国可以做到，欧洲也有一家可以做到这样的精度，所以说我们的蚀刻机水平是目前世界上最先进之一。
而光刻机能做到5纳米级别的只有一家，属于世界上最先进的水平没有之一，蚀刻机和光刻机的区别在于一个是把半导体纳米线路印上去，而蚀刻机的作用是把光刻机印在硅片上的多余的残渣给去除掉，区别在于一个是雕刻印刷一个是打磨精修，刻上去的难度远高于精修，所以这也是为什么光刻机比蚀刻机重要的原因。
在集成半导体线路里面，最重要的就是光刻机，第二重要的就是蚀刻机了，蚀刻机其实属于老二级别的存在，我们的蚀刻机属于世界一流水平，光刻机就差一点，大概差多少呢，其实至少在一代半到两代的差距，也就是说我们的差距至少在十年到十五年之间，蚀刻机已经处在最顶级的一个层面，并没有形成代差。
蚀刻机虽然也是高尖端科技，但是还是没有光刻机的难度高，能搞定蚀刻机并不代表光刻机也一样，打一个比方，蚀刻机的难度是五，那光刻机的难度就是十甚至十以上，这并不是说蚀刻机难度不高，而是恰恰相反说明了光刻机的难度太高，蚀刻机的高难度去衬托光刻机的超高难度，所以并不是说我们的科学家不努力，而是说明了光刻机的尖端。
如何能做到全面达到顶尖水平，这个只能从科学的基础培养出发，打好坚实的基础，基础扎实了，就像高楼大厦建造，地基做好了才能在地基上面建造更高的楼层，光刻机为什么没有达到最先进水平，那是因为在这方面我们的基础没有足够好，所以才没有办法做到高端方面的最顶级，平衡的科技发展才是真正的强大，偏科很容易给自己阻碍。
